第23章 中微公司688012的前世今生[2/2页]

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    sp;   以下水平，相当于头发丝

    350

    万分之一的精准度，能够满足

    90%

    以上的刻蚀应用需求，技术能力已覆盖

    5

    纳米及以下更先进水平。公司的

    CCP

    刻蚀设备反应腔全球出货量超

    3000

    台，累计已有超过

    700

    台

    ICP

    和

    TSV

    设备在国内外生产线实现量产，市场占有率不断提高。

    在薄膜设备领域，中微公司推出了多款新产品，如

    Preforma

    Uniflex?

    CW、Preforma

    Uniflex?

    HW、

    Preforma

    Uniflex?

    AW

    等，以满足市场对不同薄膜沉积工艺的需求。公司新开发的

    LPCVD

    薄膜设备和

    ALD

    薄膜设备也已进入市场并获得重复性订单，其中

    LPCVD

    薄膜设备累计出货量已突破

    100

    个反应台，2024

    年实现首台销售，全年设备销售约

    1.56

    亿元

    。此外，公司的

    EPI

    设备已顺利进入客户端量产验证阶段，在

    Micro

    LED

    和高端显示领域的

    MOCVD

    设备开发上也取得了良好进展，并积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场。

    在规模扩张方面，中微公司积极推进生产基地的建设

    年，公司位于南昌的生产研发基地正式投入运营，上海临港生产和研发基地目前也已部分启用，位于临港滴水湖畔的总部大楼的建设工作也在稳步推进中。不久之后，中微公司的厂房和办公楼总面积将达到

    45

    万平方米，为公司进一步扩充高端设备产能、提升公司研发能力和科技创新水平奠定坚实的基础。

    现状：业务布局与市场地位

    核心业务与产品

    如今，中微公司已成长为一家在半导体设备领域极具影响力的企业，其业务涵盖刻蚀设备、MOCVD

    设备、薄膜沉积设备等多个关键领域。

    刻蚀设备作为中微公司的核心业务之一，在市场上表现卓越。公司的等离子体刻蚀设备技术处于国际先进水平，已成功应用于从

    65

    纳米到

    5

    纳米及更先进节点的制造工艺，能够满足

    90%

    以上的刻蚀应用需求。其中，CCP

    刻蚀设备反应腔全球出货量超

    3000

    台，累计已有超过

    700

    台

    ICP

    和

    TSV

    设备在国内外生产线实现量产。其出色的刻蚀精度、稳定性和生产效率，使其在全球半导体刻蚀设备市场中占据了重要地位。

    MOCVD

    设备方面，中微公司在高端照明和显示市场取得了显着成绩，开发的

    MOCVD

    设备在国内外已占据超

    70%

    的市场份额

    。公司不断对

    MOCVD

    设备进行技术升级和创新，推出了一系列高性能的产品，如

    Prismo

    UniMax?

    等，满足了市场对高品质

    LED

    外延片和

    Micro

    LED

    的生产需求。

    在薄膜沉积设备领域，中微公司同样成果丰硕。公司推出了多款新产品，如

    Preforma

    Uniflex?

    CW、Preforma

    Uniflex?

    HW、

    Preforma

    Uniflex?

    AW

    等，涵盖了多种薄膜沉积工艺。新开发的

    LPCVD

    薄膜设备和

    ALD

    薄膜设备也已进入市场并获得重复性订单，其中

    LPCVD

    薄膜设备累计出货量已突破

    100

    个反应台，2024

    年实现首台销售，全年设备销售约

    1.56

    亿元

    。公司的

    EPI

    设备已顺利进入客户端量产验证阶段，在关键薄膜沉积设备研发项目上也正在顺利推进。

第23章 中微公司688012的前世今生[2/2页]

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